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微纳加工测试

聚焦离子束直写系统

仪器品牌:蔡司(Zeiss)

仪器型号:ORION NanoFab

 

基本功能:

聚焦离子束直写系统主要应用在微纳制造平台中,在平台中具有实现纳米尺度图形的高精度制备和表征的功能,可用于纳米结构的直接刻蚀加工,可实现50nm以下图形结构的高质量制备,可实现高效、高精度的亚10纳米级结构加工;可用于观察半导体电路分析、光刻、石墨烯等敏感材料、页岩等岩石样品、氮化硅、有机光伏材料等。

 

仪器主要技术参数:

1. 视野范围:900μm~100nm @ 8mm 工作距离;

2. 氦离子束:成像分辨率0.5nm;束流0.1~10pA;切割线宽≤10nm;

3. 镓离子束:成像分辨率3.0nm;束流1pA~100nA;切割线宽≤50nm;

 

送样要求:

1.固体粉末或块状样品,块状直径小于40mm,高度小于30mm,样品表面无浮粉,粉末样品粘贴后用氮枪吹去浮粉。

2.测试样品应具有良好的导电性且无磁性(磁铁吸不起来)。

3.测试样品热稳定性好,不含有水分或其它易挥发物。

 

联系方式:

测试地点:综合楼一楼南超净间

管理人员:戴玉洁

联系电话:1868070311