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微纳加工测试

激光直写机

仪器品牌:海德贝格仪器(Heidelberg instruments)

仪器型号:DWL 66Fs

 

基本功能:

光刻掩模版制备和微纳图形无掩膜直写,激光直写系统可以在不需要掩模版的情况下,直接对光刻胶书写图案,从而使得激光刻蚀过程更加快捷方便,该设备采用激光作为光源,透过高精度的光学透镜组,最小直写精度可以达到0.6um,而且工作台平台定位激光干涉仪分辨率10 nm,能够精准的提高光刻图形的提高光刻图形的质量,实现大面积高精度无掩膜直写曝光。广泛应用于光掩模版制备;半导体芯片、MEMS、传感器、MOEMS、集成光学等图形的制作。

 

仪器主要技术参数:

1.直写光刻分辨力高于1um(10mm写头用于最小结构2um的图形,2mm写头用于最小结构1um的图形);

2.定位精度大于0.1um;

3.具有曲面直写能力,支持平面直写(黑白图二维加工)和曲面直写(灰阶图三维加工)

4.兼容CIF, DXF, GDSII 等输入数据格式;

5.最大基板尺寸为9英寸;

6.激光波段405nm,最大能量120mW;

 

送样要求:

1.样品最小尺寸1.5cm*1.5cm,样品过小无法聚焦、容易损坏设备;
2.曝光图形距离样品边缘≥0.3cm以上;
3.其他要求具体协商;

 

联系方式:

放置地点:综合楼南楼超净间

管理人员:尹杰民

联系电话:17265031042