仪器品牌：海德贝格仪器（Heidelberg instruments）

仪器型号：DWL 66Fs

基本功能：

光刻掩模版制备和微纳图形无掩膜直写，激光直写系统可以在不需要掩模版的情况下，直接对光刻胶书写图案，从而使得激光刻蚀过程更加快捷方便，该设备采用激光作为光源，透过高精度的光学透镜组，最小直写精度可以达到0.6um，而且工作台平台定位激光干涉仪分辨率10 nm，能够精准的提高光刻图形的提高光刻图形的质量，实现大面积高精度无掩膜直写曝光。广泛应用于光掩模版制备；半导体芯片、MEMS、传感器、MOEMS、集成光学等图形的制作。

仪器主要技术参数：

1.直写光刻分辨力高于1um（10mm写头用于最小结构2um的图形，2mm写头用于最小结构1um的图形）；

2.定位精度大于0.1um；

3.具有曲面直写能力，支持平面直写（黑白图二维加工）和曲面直写（灰阶图三维加工）

4.兼容CIF, DXF, GDSII 等输入数据格式；

5.最大基板尺寸为9英寸；

6.激光波段405nm，最大能量120mW；

送样要求：

1.样品最小尺寸1.5cm*1.5cm，样品过小无法聚焦、容易损坏设备；
2.曝光图形距离样品边缘≥0.3cm以上；
3.其他要求具体协商；

联系方式：

放置地点：综合楼南超净间

管理人员：戴玉洁

联系电话：18680703116